鹽霧試驗(yàn)箱試驗(yàn)溶液需用氯化鈉和水進(jìn)行配比，金屬的鹽霧腐蝕屬電化學(xué)腐蝕，鹽中雜質(zhì)的多少對鹽霧試驗(yàn)結(jié)果有很大影響，如：NaI過量時(shí)，無形中會(huì)增加金屬間的電位差或使金屬形成保護(hù)表面，從而影響金屬腐蝕速率;Cu、Ni離子具有加速腐蝕和干擾試驗(yàn)結(jié)果的作用，尤其是Ni鍍層、Cr鍍層，與實(shí)際條件下所得結(jié)果的對比性差，使中性鹽霧試驗(yàn)的可靠性欠佳，因此必須嚴(yán)格控制Cu、Ni雜質(zhì)含量。

德國大眾和法國PSA的控制內(nèi)容大致相當(dāng)，只是雜質(zhì)的總質(zhì)量分?jǐn)?shù)有所不同，二者之間的關(guān)系相當(dāng)于分析純NaCl與優(yōu)級純NaCl的差異。

日產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)的內(nèi)容與現(xiàn)行的GB1266-2006《化學(xué)試劑 氯化鈉》大致相當(dāng)，但GB1266-2006僅對碘化物有要求，對Cu、Ni則無要求。日產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)對鹽霧試驗(yàn)箱用水的要求極其嚴(yán)格，其用水標(biāo)準(zhǔn)相當(dāng)于GB/T6682-2008《分析實(shí)驗(yàn)室用水規(guī)格和試驗(yàn)方法》標(biāo)準(zhǔn)中的二級水。這與日產(chǎn)對NaCl中雜質(zhì)含量的要求較為寬松、需要嚴(yán)控水中的電導(dǎo)率有關(guān)。這種苛刻的試驗(yàn)用水條件將會(huì)大大增加使用日產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)的鹽霧試驗(yàn)成本。

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